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电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阻挡层

王启民 , 郭明虎 , 柯培玲 , 孙超 , 黄荣芳 , 闻立时

金属学报

采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSM11间沉积不同成分的 Cr-O--N薄膜作为扩散阻挡层, 研究了900 ℃下氧化1400 h后 DSM11/Cr-O-N/NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及 阻挡层对涂层氧化动力学曲线的影响. 结果表明, Cr-O-N层在高温氧化过程 中生成与涂层和基材有良好结合的富Al氧化物层, 可以阻挡DSM11基体与NiCoCrAlY 涂层间的元素互扩散, 起到活性阻挡层的作用; Cr-O-N层中O和N含量影响生 成富Al氧化物层的连续性和致密性, 从而影响其阻挡元素互扩散的性能. 几种 成分的Cr-O-N活性扩散阻挡层对NiCoCrAlY涂层900 ℃下的高温氧化性能都有 一定的改善作用, 改善程度与阻挡层阻挡合金元素互扩散的程度保持一致.

关键词: Cr-O-N , reactive diffusion barrier , arc ion plating (AIP)

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